Silicon Genesis annuncia il nuovo sistema di seconda generazione Polymax™ per la produzione di wafer solari sottili

SiGen completa i test di qualificazione del progetto per il suo nuovo sistema per la produzione ad alto volume di wafer privi di solchi da taglio
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SAN JOSE, California, (informazione.it - comunicati stampa - energia)

Silicon Genesis, società leader nell'ambito dei processi e delle tecnologie per sottostrati ingegnerizzati nonché pioniera nella produzione di wafer a celle solari a induzione, ha annunciato oggi di avere completato le specifiche del suo sistema di seconda generazione per la produzione di wafer solari sottili in silicio. Il progetto del sistema è il risultato di oltre 6 anni di sviluppo, collaudi di prototipi e valutazione di materiale per celle solari con attrezzature e partner diversi del settore. Il nuovo sistema GenII PolyMax™ segue molti primati di SiGen nel settore, tra cui la pionieristica produzione di wafer quadrati standard in silicio monocristallino per celle solari privi di solchi da taglio e senza telaio da 125 e 156 mm con spessore di 20, 50, 85, 120 e 150 um (micron).

Silicon Genesis annuncia il nuovo sistema di seconda generazione Polymax™ per la produzione di wafer solari sottili

20um Silicon Wafer (2009) (Photo: Business Wire)

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