La tecnologia sputtering "RAMFORCE" di Keihin Ramtech rappresenta un punto di svolta che rivoluzionerà il settore delle celle solari perovskitiche

Vantaggi di RAM FORCE Sputtering 

Miglioramento delle caratteristiche di deposizione per polverizzazione catodica per le celle solari perovskitiche

RAM FORCE, che ha una struttura unica grazie a bersagli a quattro facce e alla disposizione del campo magnetico, ha ottenuto una deposizione a basso danno e nel caso della deposizione TCO su PSC, la durata del vettore, che è una linea guida per i danni, è stata migliorata di circa il 30% rispetto alle apparecchiature di sputtering planare. La proprietà a basso danno è stata utilizzata per ottenere un deposito a basso danno. Sfruttando le caratteristiche di sputtering a basso danno, il PSC ottiene un fattore di riempimento (FF) superiore al 75%, un fattore di curva che rappresenta le caratteristiche della cella. Ha iniziato ad essere utilizzato nelle applicazioni di ricerca e sviluppo (R&S) e nelle linee pilota.

Realizzazione della deposizione per polverizzazione catodica a bassa temperatura 

RAM FORCE consente una deposizione a bassa temperatura a meno di 60 °C (ITO: 100 nm) ed è quindi adatto alla deposizione su substrati flessibili.

Sviluppo futuro di RAM FORCE 

RAMTECH si sta concentrando anche su altre applicazioni. Per lo strato di trasporto di lacune (HTL) di PSC, lo strato NiOx può essere utilizzato invece dello strato organico attualmente utilizzato come Spiro-OMeTAD per la realizzazione della deposizione a basso danno e bassa resistenza. Inoltre, modificando le condizioni del processo di deposito, NiOx può anche essere depositato come strato di trasporto elettronico (ETL), rendendo possibile l'uso dello stesso materiale per il deposito di HTL ed ETL, migliorando così le caratteristiche e riducendo i costi.

https://www.ramtech.jp/en/service/ramforce/

KEIHIN RAMTECH Co., Ltd.

Centro R&S Tetsuya Saruwatari

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